ساخت سد محکمی در مقابل فرار یون هیدروژن
به گزارش کنکوری، محققان دانشگاه کوماموتو توانستند به صورت مؤثر یک لایه نازک از اکسید گرافن را بسازند که عاری از حفره بوده و می تواند سد محکمی در مقابل یون هیدروژن باشد.
به گزارش کنکوری به نقل از ایسنا، در مقاله ای که تیم تحقیقاتی دانشگاه کوماموتو به سرپرستی استادیار کازوتو هاتاکیاما و پروفسور شینتارو آیدا در نشریه Small منتشر نمودند، جزئیات در ارتباط با ساخت یک لایه محافظ در مقابل یون هیدروژن تشریح شده است. این لایه که بعنوان سد در مقابل یون هیدروژن عمل می کند، از جنس اکسید گرافن (GO) بوده که بدون منافذ داخلی است. این نتایج بهبود قابل توجهی در پوشش های محافظ برای طیف وسیعی از کاربردها را امکانپذیر خواهد نمود.
از آنجاییکه اکسید گرافن سابقه هدایت یونی قوی دارد، استفاده از آن بعنوان یک مانع یونی دشوار است. از طرفی، محققان با از بین بردن منافذ داخلی، ماده ای باکیفیت بالا بعنوان سد یون هیدروژن تولید کردند.
داده های رسانایی پروتون از طیف سنجی امپدانس AC نشان داده است که فیلم اکسید گرافن جدید تا ۱۰۰ هزار برابر بهتر از فیلمهای استاندارد اکسید گرافن از نظر سد یون هیدروژن عمل می کند. این نوآوری در آزمایش های لایه اکسید گرافن غیر متخلخل تأیید شد که با موفقیت از فویل لیتیوم در مقابل قطرات آب محافظت کرد و هرگونه تعامل بین این دو را متوقف کرد.
این مطالعه همینطور نشان داد که یون های هیدروژن از راه منافذ اکسید گرافن معمولی عبور می کنند که این مورد بر اهمیت بستن این منافذ برای بهبود خواص سدی اکسید گرافن تاکید می کند. توسعه این فناوری فرصت های جدیدی جهت استفاده از پوشش های محافظ، زیرساخت های هیدروژنی و پیشگیری از زنگ زدگی فراهم می آورد.
این مطالعه نشان دهنده پیشرفت بزرگی در زمینه علم مواد است و می تواند منجر به توسعه پوشش هایی باکیفیت محافظتی بهبود یافته در آینده شود.
هاتاکیما، استادیار دانشگاه کوماموتو می گوید: با حرکت رو به جلو، ما می خواهیم عملکرد سد یون هیدروژن را در اکسید گرافن برای کاربردهای صنعتی عملی نماییم، در حالیکه چالش های در ارتباط با منافذ در ساختار اکسید گرافن را هم برای پیاده سازی قابلیت های دیگر بررسی نماییم.
منبع: كنكوری
این مطلب را می پسندید؟
(1)
(0)
تازه ترین مطالب مرتبط
نظرات بینندگان در مورد این مطلب